| タイトル | Reactive-ion etching of 0.2 micron period gratings in tungsten and molybdenum using CBrF3 |
| 著者（英） | Schattenburg, M. L.; Plotnik, I.; Smith, H. I. |
| 著者所属（英） | Massachusetts Inst. of Tech. |
| 発行日 | 1985-02-01 |
| 言語 | eng |
| 内容記述 | |
| NASA分類 | METALLIC MATERIALS |
| レポートNO | 85A23188 |
| 権利 | Copyright |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/393016 |
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