| タイトル | プラズマを用いたポリシリコンゲート電極の微細加工の研究 |
| その他のタイトル | Study of advanced plasma etching of polysilicon gate |
| 本文（外部サイト） | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2264 |
| 著者（日） | 後藤, 剛 |
| 著者（英） | Goto, Takeshi |
| 著者所属（日） | 慶應義塾大学理工学研究科 |
| 著者所属（英） | Graduate School of Science and Technology, Keio University |
| 発行日 | 2007 |
| 発行機関など | 慶應義塾大学
Keio University |
| 開始ページ | 1 |
| 終了ページ | 92 |
| 刊行年月日 | 2007 |
| 言語 | jpn
eng |
| 内容記述 | 学位授与大学: 慶應義塾大学理工学研究科総合デザイン工学専攻 平成19年度 博士 (工学) 甲第2787号 学位授与年月日: 平成19年8月1日 |
| キーワード | プラズマ; 半導体プロセス; レジスト; トリミング; SO2; plasma; semiconductor-process; resist; trimming |
| 資料種別 | Thesis or Dissertation |
| NASA分類 | Electronics and Electrical Engineering |
| SHI-NO | AA0062182000 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/16602 |
