タイトル | Laser spectroscopy of molecular ions produced by laser ablation of refractory materials |
その他のタイトル | 耐火材料のレーザアブレーションにより生成した分子イオンのレーザ分光法 |
著者(日) | 松尾 由賀利; 中嶋 隆; 小林 徹; 高見 道生 |
著者(英) | Matsuo, Yukari; Nakajima, Takashi; Kobayashi, Toru; Takami, Michio |
著者所属(日) | 理化学研究所 無機化学物理研究室; 理化学研究所 無機化学物理研究室; 理化学研究所 無機化学物理研究室; 理化学研究所 無機化学物理研究室 |
著者所属(英) | Institute of Physical and Chemical Research Inorganic Chemical Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Inorganic Chemical Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Inorganic Chemical Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Inorganic Chemical Physics Laboratory |
発行日 | 1997-08 |
発行機関など | Institute of Physical and Chemical Research |
刊行物名 | RIKEN Review RIKEN Review |
号 | 15 |
開始ページ | 79 |
終了ページ | 80 |
刊行年月日 | 1997-08 |
言語 | eng |
抄録 | Laser-Induced-Fluorescence (LIF) spectra of molecular ions produced by laser ablation of a solid sample and subsequent reaction with ambient gas have been observed. A Si wafer target is irradiated by a pulsed Nd:YAG laser (1.06 micrometer) in oxygen gas and LIF spectra of SiO(+) are observed. The optimum oxygen pressure for the formation of molecular ions is found to be approximately 120 mtorr, which is in good agreement with previous works on the formation of other neutral molecules. 固体試料のレーザアブレーション、およびそれに引き続く雰囲気ガスとの反応によって生成される、分子イオンのレーザ誘起蛍光(LIF)スペクトルを観測した。Siウエハターゲットを酸素ガス中で、Nd:YAGパルスレーザ(1.06マイクロメートル)を用いて照射し、SiO(+)のLIFスペクトルを観測した。分子イオンの形成に最適な酸素圧力は、約120mtorrであることがわかった。これはその他の中性分子の形成に関するこれまでの諸研究とよく一致している。 |
キーワード | refractory material; laser ablation; molecular ion formation; laser spectroscopy; LIF spectra; laser induced fluorescence spectra; silicon monoxide ion; optimum ambient pressure; neutral molecular formation; laser plasma emission; 耐火材料; レーザアブレーション; 分子イオン形成; レーザ分光法; LIFスペクトル; レーザ誘起蛍光スペクトル; 1酸化けい素イオン; 最適雰囲気圧力; 中性分子形成; レーザプラズマ放出 |
資料種別 | Technical Report |
ISSN | 0919-3405 |
SHI-NO | AA0001806039 |
URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/27239 |