| タイトル | グラファイト・ナノクリスタルおよびグラファイト・ナノリボンの作製 |
| その他のタイトル | Formation of monolayer films of graphite nano-crystals and graphite nano-ribbons |
| 著者（日） | 長谷川 徳慶; 蒲生 康男; 寺井 真之; 奥沢 昌彦; 大島 忠平; 大谷 茂樹 |
| 著者（英） | Hasegawa, Norichika; Gamo, Yasuo; Terai, Masayuki; Okuzawa, Masahiko; Oshima, Chuhei; Otani, Shigeki |
| 著者所属（日） | 早稲田大学 理工学部 応用物理学科; 早稲田大学 理工学部 応用物理学科; 早稲田大学 理工学部 応用物理学科; 早稲田大学 理工学部 応用物理学科; 早稲田大学 理工学部 応用物理学科; 無機材質研究所 |
| 著者所属（英） | Waseda University Department of Applied Physics, School of Science & Engineering; Waseda University Department of Applied Physics, School of Science & Engineering; Waseda University Department of Applied Physics, School of Science & Engineering; Waseda University Department of Applied Physics, School of Science & Engineering; Waseda University Department of Applied Physics, School of Science & Engineering; National Institute for Research in Inorganic Materials |
| 発行日 | 1997-12-26 |
| 刊行物名 | 炭素
Tanso |
| 号 | 180 |
| 開始ページ | 229 |
| 終了ページ | 234 |
| 刊行年月日 | 1997-12-26 |
| 言語 | jpn |
| 抄録 | グラファイト・ナノクリスタルおよびグラファイト・ナノリボンのエピタキシャル単原子層薄膜をTiC(111)ファセット面およびTiC(410)面それぞれにに化学蒸着法により成長させた。これらのグラファイト単原子層薄膜の幾つかの特性をX線光電子分光法(XPS)、低速電子線回折(LEED)および角度分解紫外線光電子分光法(ARUPS)を用いて研究した。グラファイト・ナノ薄膜を1,250度Cでエチレン曝露量6×10(exp 5)LによりTiC(111)ファセット面上に、またグラファイト・ナノリボンを約1,050度Cでエチレン曝露量2×10(exp 4)LによりTiC(410)面上に成功裏に作製した。
By chemical vapor deposition, monolayer epitaxial films of graphite nano-crystals and graphite nano-ribbons have been grown on TiC (111)-facet surface and TiC (410) surface, respectively. Some properties of these graphite monolayer films have been studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), Low Energy Electron Diffraction (LEED) and Angle-Resolved Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy (ARUPS). The graphite nano-films have been successfully prepared by ethylene exposure of 6 x 10(exp 5) L on the TiC (111)-facet surface at 1,250 C, and the nano-ribbons by 2 x 10(exp 4) L on the TiC (410) surface at approximately 1,050 C. |
| キーワード | graphite nanocrystal; graphite nanoribbon; monolayer film; chemical vapor deposition; faceted surface; TiC substrate; ethylene exposure; stepped surface; epitaxial film; グラファイト・ナノクリスタル; グラファイト・ナノリボン; 単原子層薄膜; 化学蒸着; ファセット面; 炭化チタン基板; エチレン曝露; 階段状面; エピタキシャル薄膜 |
| 資料種別 | Journal Article |
| ISSN | 0371-5345 |
| SHI-NO | AA0001310003 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/32539 |
