タイトル | Electronic states of undoped and Mg-doped GaN thin films studied by photoelectron spectroscopy |
その他のタイトル | 光電子分光法により調べた非ドープおよびMgドープGaN薄膜の電子状態 |
著者(日) | 名越 正泰; 大谷 章; Beresford,R. |
著者(英) | Nagoshi, Masayasu; Otani, Akira; Beresford, R. |
著者所属(日) | 鋼管計測; 日本鋼管 綾瀬研究所; Brown University Division of Engineering |
著者所属(英) | Kokan Keisoku K. K.; NKK Corporation Ayase LSI Research Center; Brown University Division of Engineering |
発行日 | 1995-10-03 |
刊行物名 | Bulletin of the Research Institute of Electronics, Shizuoka University 静岡大学電子工学研究所研究報告 |
巻 | 30 |
号 | 3 |
開始ページ | 57 |
終了ページ | 59 |
刊行年月日 | 1995-10-03 |
言語 | eng |
抄録 | Undoped and Mg-doped GaN thin films with wurtzite structures have been investigated using X-ray and ultraviolet photoelectron spectroscopies. It is found that new states appear above the top of the valence band and the valence band shifts to the lower-binding-energy side with Mg doping. These results are discussed in terms of the Mg-doping effects on the electronic states and photoluminescence properties of wurtzite GaN thin films. X線および紫外光電子分光法を用いて、ウルツ鉱型結晶窒化ガリウム(GaN)の非ドープおよびマグネシウム(Mg)ドープ薄膜の電子状態を調べた。Mgをドープすると、価電子帯の最上部の上に新しい状態が現れて、価電子帯は低結合エネルギー側にシフトする。これらの結果を、ウルツ鉱型結晶である窒化ガリウム(GaN)薄膜における電子状態と光ルミネッセンス特性へのMgドーピング効果として論じた。 |
キーワード | surface; GaN thin film; wurtzite structure; Mg doping; X ray photoelectron spectroscopy; ultraviolet photoelectron spectroscopy; electronic states; valence band; photoluminescence; optoelectronic material; light emitting diode; doping effect; 表面; GaN薄膜; ウルツ鉱型結晶; Mgドープ; X線光電子分光法; 紫外光電子分光法; 電子状態; 価電子帯; 光ルミネッセンス; 光電的物質; 発光ダイオード; ドーピング効果 |
資料種別 | Conference Paper |
SHI-NO | AA0000462012 |
URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/33925 |