タイトル | Technical Report of ISSP Ser. A: Number 2748 |
その他のタイトル | Magneto-optical measurements of C60 epitaxial films under pulsed high magnetic fields up to 150 T 150Tまでのパルス高磁場におけるC60エピタキシャル薄膜の磁気光学測定 |
著者(日) | 内田 和人; 渡辺 勝儀; 三浦 登; 櫻井 正敏; 小間 篤 |
著者(英) | Uchida, Kazuhito; Watanabe, Katsuyoshi; Miura, Noboru; Sakurai, Masatoshi; Koma, Atsushi |
著者所属(日) | 東京大学物性研究所; 山梨大学 教育学部; 東京大学物性研究所; 東京大学 理学部 化学科; 東京大学 理学部 化学科 |
著者所属(英) | Institute for Solid State Physics, University of Tokyo; Yamanashi University Faculty of Liberal Arts and Education; Institute for Solid State Physics, University of Tokyo; University of Tokyo Department of Chemistry, Faculty of Science; University of Tokyo Department of Chemistry, Faculty of Science |
発行日 | 1993-11 |
発行機関など | Institute for Solid State Physics, University of Tokyo |
刊行物名 | Technical Report of ISSP Ser. A Technical Report of ISSP Ser. A |
号 | 2748 |
開始ページ | 1冊 |
刊行年月日 | 1993-11 |
言語 | eng |
抄録 | The magneto-optical spectra of C60 epitaxial films have been measured in the visible-ultraviolet region under pulsed high magnetic fields up to 150 T. The samples were grown heteroepitaxially on a cleaved face of CaF2 by means of van der Waals epitaxy. In the spectra, no discernible fiels dependence has been observed. The result suggests that the visible absorption band at 400 - 550 nm has more molecular origin such as intermolecular transitions. C60エピタキシャル薄膜の磁気光学スペクトルを150Tまでのパルス高磁場で可視-紫外領域において測定した。試料はファン・デル・ワールスエピタキシーの方法により、CaF2のへき開面上にヘテロエピタキシャルに成長させて作った。スペクトルに関しては識別できるいかなる磁場依存性も観測されなかった。結果は400-550nmにおける可視吸収バンドが、分子間遷移のような分子起源を持つことを示唆している。 |
キーワード | magneto optial absorption; C60; epitaxial film; pulsed high field; visible ultraviolet region; heteroepitaxial growth; cleaved face; CaF2; van der Waals epitaxy; magnetic field dependence; visible absorption band; intermolecular transition; Fulleren; Band structure; surface structure; 磁気-光学吸収; C60; エピタキシャル薄膜; パルス高磁場; 可視-紫外領域; ヘテロエピタキシャル成長; へき開面; CaF2; ファン・デル・ワールスエピタキシー; 磁場依存性; 可視吸収バンド; 分子間遷移; フラーレン; バンド構造; 表面構造 |
資料種別 | Technical Report |
ISSN | 0082-4798 |
SHI-NO | AA0007229000 |
レポートNO | ISSP-Ser.A-No.2748 |
URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/34465 |