| タイトル | A heavy ion target for synchrotron radiation |
| その他のタイトル | シンクロトロン放射のための重イオンターゲット |
| 著者（日） | Kravis,S.; 大浦 正樹; 粟屋 容子; 奥野 和彦; 木村 正廣 |
| 著者（英） | Kravis, Scott; Oura, Masaki; Awaya, Yoko; Okuno, Kazuhiko; Kimura, Masahiro |
| 著者所属（日） | 理化学研究所 原子物理研究室; 理化学研究所 原子物理研究室; 理化学研究所 原子物理研究室; 理化学研究所 原子物理研究室; 大阪大学 |
| 著者所属（英） | Institute of Physical and Chemical Research Atomic Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Atomic Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Atomic Physics Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Atomic Physics Laboratory; Osaka University |
| 発行日 | 1994-01 |
| 発行機関など | Institute of Physical and Chemical Research |
| 刊行物名 | Riken Review
Riken Review |
| 号 | 4 |
| 開始ページ | 61 |
| 終了ページ | 62 |
| 刊行年月日 | 1994-01 |
| 言語 | eng |
| 抄録 | An Electron Beam Ion Source (EBIS) have been constructed for use with synchrotron radiation to study the process of photoionization of highly charged heavy ions. The reason for using an EBIS as an ion target is that it can produce ion target densities greater then 10(exp 8) ions/cu cm in an ultra-high vacuum environment. The apparatus will also be used to test the Photon Beam Ion Source (PHOBIS) mode of operation to create low energy multi-charged heavy ions by replacing the electron beam with synchrotron radiation.
高電荷重イオンの光イオン化の過程を研究するためシンクロトロン放射用の電子ビームイオン源(EBIS)を製作した。イオンターゲットとしてEBISを用いる理由は、それが超高真空環境で10｛8｝イオン/立方センチメートル以上のイオンターゲット密度を生成するからである。この装置は、電子ビームをシンクロトロン放射に置換えることによって低エネルギー多重電荷重イオンを生成するためのPHOBIS(光子ビームイオン源)操作モードを試験するためにも使用できる。 |
| キーワード | synchrotron radiation; heavy ion target; photoionization; Electron Beam Ion Source; EBIS; ultra high vacuum; ion target density; Photon Beam Ion Sonrce; PHOBIS; シンクロトロン放射; 重イオンターゲット; 光イオン化; 電子ビームイオン源; EBIS; 超高真空; イオンターゲット密度; 光子ビームイオン源; PHOBIS |
| 資料種別 | Technical Report |
| ISSN | 0919-3405 |
| SHI-NO | AA0006249030 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/35803 |
