| タイトル | In-situ X-ray photoelectron spectroscopic and scanning tunneling microscopic studies on the structure of C60 photopolymers |
| その他のタイトル | C60光高分子構造のX線光電子分光と走査トンネル顕微鏡のその場計測 |
| 著者（日） | 尾上 順; 中山 知信; 青野 正和; 武内 一夫 |
| 著者（英） | Onoe, Jun; Nakayama, Tomonobu; Aono, Masakazu; Takeuchi, Kazuo |
| 著者所属（日） | 理化学研究所 レーザー反応工学研究室; 理化学研究所 表面界面工学研究室; 理化学研究所 表面界面工学研究室; 理化学研究所 レーザー反応工学研究室 |
| 著者所属（英） | Institute of Physical and Chemical Research Applied Laser Chemistry Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Surface and Interface Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Surface and Interface Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Applied Laser Chemistry Laboratory |
| 発行日 | 2001-03 |
| 発行機関など | Institute of Physical and Chemical Research |
| 刊行物名 | RIKEN Review
RIKEN Review |
| 号 | 33 |
| 開始ページ | 39 |
| 終了ページ | 40 |
| 刊行年月日 | 2001-03 |
| 言語 | eng |
| 抄録 | The structure of C60 photopolymers has been investigated by in situ X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Scanning Tunneling Microscopy (STM). The XPS study revealed that the C60 photopolymer forms a 2D (two-dimensional) hexagonal structure when the polymerization is saturated. Using STM, a direct real-space image of the C60 dimers, trimers, and 2D hexagonal structure were observed in a C60 monolayer on a Si(111) 3(exp 1/2) x 3(exp 1/2) R 30 deg-Ag surface.
C60光高分子の構造をX線光電子分光(XPS)と走査トンネル顕微鏡法(STM)のその場計測により調べた。XPSの結果では、C60光高分子は、重合が飽和した時点で2次元6方構造を作る。Si(111)3(exp 1/2)×3(exp 1/2)R30度上のC60単分子層において、C60の2量体、3量体、2次元6方構造のSTM実空間像を観察することに成功した。 |
| キーワード | C60 photopolymer; X ray photoelectron spectroscopy; XPS; scanning tunneling microscopy; STM; polymerization; two dimensional hexagonal structure; C60 monolayer; dimer; trimer; real space image; C60光高分子; X線光電子分光; XPS; 走査トンネル顕微鏡法; STM; 重合; 2次元6方構造; C60単分子層; 2量体; 3量体; 実空間像 |
| 資料種別 | Technical Report |
| ISSN | 0919-3405 |
| SHI-NO | AA0029518011 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/38821 |
