JAXA Repository / AIREX 未来へ続く、宙(そら)への英知

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タイトルAb initio study of the role of hydrogen on diamond epitaxy
その他のタイトルダイアモンド・エピタキシー上の水素の役割の非経験的研究
著者(日)金井 千里; 渡辺 一之
著者(英)Kanai, Chisato; Watanabe, Kazuyuki
著者所属(日)東京理科大学 理学部 物理学科; 東京理科大学 理学部 物理学科
著者所属(英)Science University of Tokyo Department of Physics, Faculty of Science; Science University of Tokyo Department of Physics, Faculty of Science
発行日2000
発行機関などThe Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo
東京大学物性研究所
刊行物名Activity Report, 1999
Activity Report, 1999
開始ページ79
終了ページ80
刊行年月日2000
言語eng
抄録The reaction pathway and the potential energy curves for the extraction of a hydrogen atom from dihydride and monohydride diamond C(100) surfaces under hydrogen beam irradiation have been obtained by the ab initio pseudopotential method with the Generalized Gradient Approximation (GGA). It was found that a hydrogen atom on the monohydride surface can be extracted with a small activation energy compared with the energy required for associative desorption of an H2 molecule from the monohydride surface with the aid of irradiated hydrogen. It is thus concluded that H beam irradiation promotes hydrogen extraction and lead to the growth rate enhancement in the diamond epitaxy.
水素ビーム照射下での単水素化および2水素化ダイアモンド表面(C(100)面)からの水素脱離に対する反応経路とポテンシャルエネルギー曲線を一般化勾配近似(GGA)のもとで、非経験的擬ポテンシャル法によって求めた。単水素化表面上の水素原子は照射水素の助けによって、水素分子の結合的脱離エネルギーに比較して小さな活性化エネルギーで脱離されることがわかった。すなわち、水素ビーム照射は水素脱離を促進し、ダイアモンド・エピタキシーの成長率を高めると結論づけられる。
キーワードdiamond epitaxy; gas source molecular beam epitaxy method; amorphous carbon; monohydride diamond; dihydride diamond; ab initio pseudopotential method; generalized gradient approximation; hydrogen extraction; reaction pathway; potential energy curve; hydrogen irradiation; ダイアモンド・エピタキシー; 気体分子エピタキシー法; アモルファス炭素; 単水素化ダイアモンド表面; 2水素化ダイアモンド表面; 非経験的擬ポテンシャル法; 一般化勾配近似; 水素脱離; 反応経路; ポテンシャルエネルギー曲線; 水素ビーム照射
資料種別Technical Report
SHI-NOAA0002233018
URIhttps://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/42018


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