対向ターゲット型マグネトロンスパッタリング装置による極端紫外線領域の多層膜反射鏡の開発

Abstract

Helium in the plasmasphere resonantly scatters the Extreme Ultraviolet (EUV) lights from the sun. Imaging of the plasmasphere can be done by taking pictures using these resonance scattering lines He(II) (30.4 nm) and He(I) (58.4 nm). This imaging is, however, challenging because most common optical coatings don't have reflectivity for EUV wavelength range. So, multicoating mirror (multilayer mirror), which selectively reflects 30.4 nm or 58.4 nm radiation, has to be designed. These coatings were produced at CRL using a coating facility of DC magnetron sputtering system. This paper reviews multilayer coatings and DC magnetron sputtering system.

プラズマ圏におけるヘリウムは太陽からの極端紫外光(EUV)を共鳴散乱する。プラズマ圏の撮像は、これらの共鳴散乱線He(II)(30.4nm)とHe(I)(58.4nm)を用いて画像を撮ることにより成し得る。しかし、ほとんど普通の光学コーティングはEUV波長領域では反射率をもたないため、この撮像は興味をそそるものである。そこで、30.4nmや58.4nm放射を選択的に反射する多層コーティング反射鏡(多層膜反射鏡)を設計しなければならない。これらのコーティングをDCマグネトロンスパッタリング装置のコーティング設備を用いてCRLで製造した。本論文は、多層膜およびDCマグネトロンスパッタリング装置についてレビューした。