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タイトル垂直ブリッジマン法による単結晶作製時の対流・熱移動現象に関する数値解析
その他のタイトルNumerical study of flow and temperature fields during crystal growth by the vertical Bridgman method
著者(日)清水 順; 森田 貴弘; 岡野 泰則
著者(英)Shimizu, Jun; Morita, Takahiro; Okano, Yasunori
著者所属(日)静岡大学 大学院理工学研究科; 静岡大学 工学部; 静岡大学 工学部 物質工学科
著者所属(英)Shizuoka University Graduate School of Science and Engineering; Shizuoka University Faculty of Engineering; Shizuoka University Department of Materials Science and Chemical Engineering, Faculty of Engineering
発行日1998-03-25
刊行物名静岡大学工学部研究報告
Report of the Faculty of Engineering, Shizuoka University
48
開始ページ7
終了ページ33
刊行年月日1998-03-25
言語jpn
抄録A finite difference simulation for the bulk single crystal growth of indium antimonide and indium phosphide by the Vertical Bridgman (VB) method with a flat bottom crucible is presented. In order to treat a curvature interface, the boundary fixing method was applied. Behavior of flow and temperature fields, and the melt/crystal interface shape is numerically studied. The effects of various process parameters, including the crucible thickness, thermal conductivity of crucible and crucible holder, ambient temperature and temperature of growth furnace wall on the crystal growth behavior such as the melt/crystal interface shape and location are discussed.
平底るつぼを用いた垂直ブリッジマン(VB)法による、アンチモン化インジウムおよびりん化インジウムのバルク単結晶成長の有限差分シミュレーションを行った。湾曲界面を取り扱うため、境界固定法を適用した。流れ場および温度場の挙動、および融液/結晶界面形状を数値的に研究した。融液/結晶界面形状および位置などの、結晶成長の振る舞いに及ぼす、るつぼの厚み、るつぼおよびるつぼホルダの熱伝導度、周囲の温度、結晶成長炉壁の温度などを含む各種のプロセスパラメータの影響を論じた。
キーワードvertical Bridgman method; single crystal growth; indium antimonide; indium phosphide; finite difference simulation; boundary fixing method; melt crystal interface shape; flat bottom crucible; crucible holder; compound semiconductor; numerical analysis; furnace wall temperature; 垂直ブリッジマン法; 単結晶成長; アンチモン化インジウム; りん化インジウム; 有限差分シミュレーション; 境界固定法; 融液結晶界面形状; 平底るつぼ; るつぼホルダ; 化合物半導体; 数値解析; 炉壁温度
資料種別Technical Report
ISSN0583-0915
SHI-NOAA0001464001
URIhttps://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/43044


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