| タイトル | 原子層成長法による軟X線用多層膜の作製 |
| その他のタイトル | Fabrication of soft X-ray multilayer mirrors by atomic layer epitaxy |
| 著者（日） | 石井 真史; 岩井 荘八; 河田 博文; 植木 龍夫; 青柳 克信 |
| 著者（英） | Ishii, Masashi; Iwai, Sohachi; Kawata, Hirofumi; Ueki, Tatsuo; Aoyagi, Yoshinobu |
| 著者所属（日） | 理化学研究所 大型放射光施設計画推進本部; 理化学研究所 レーザー科学研究グループ; 理化学研究所 半導体工学研究室; 理化学研究所 大型放射光施設計画推進本部; 理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
| 著者所属（英） | Institute of Physical and Chemical Research Division of Spring-8 Project; Institute of Physical and Chemical Research Laser Science Research Group; Institute of Physical and Chemical Research Semiconductors Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Division of Spring-8 Project; Institute of Physical and Chemical Research Laser Science Research Group |
| 発行日 | 1996-09-30 |
| 刊行物名 | レーザー科学研究
Laser Science Progress Report of RIKEN |
| 号 | 18 |
| 開始ページ | 101 |
| 終了ページ | 103 |
| 刊行年月日 | 1996-09-30 |
| 言語 | jpn |
| 抄録 | X線多層膜ミラーの作製に原子層エピタクシー(ALE)を初めて適用した。AlのL吸収端の波長で、反射率が10パーセントを越えるAlP/GaP多層膜ミラーを実現した。ALEによって達成可能な原子層オーダの厚み可制御性に応じて、多層膜ミラーの反射波長を高精度で制御できる。このことは、ALEが短波長X線ミラーや非周期的多層膜ミラーの作製に有効であることを示している。
Atomic Layer Epitaxy (ALE) is applied to the fabrication of X-ray multilayer mirrors for the first time. An AlP/GaP multilayer mirror with a reflectivity in excess of 10 percent is realized at the wavelength of the L absorption edge of Al. Accordance with the atomic scale thickness controllability achievable with ALE, the reflection wavelength of multilayer mirrors can be controlled with high precision. This indicates that ALE would be a useful way to fabricate a short wavelength X-ray mirror and a nonperiodic multilayer mirror. |
| キーワード | ALE; atomic layer epitaxy; soft X ray multilayer mirror; aluminum L absorption edge wavelength; X ray reflectivity; AlP/GaP multilayer mirror; layer thickness controllability; reflection wavelength control; short wavelength X ray mirror; nonperiodic multilayer mirror; temperature dependence; growth rate; ALE; 原子層エピタクシー; 軟X線多層膜ミラー; アルミニウムL吸収端; X線反射率; AlP/GaP多層膜ミラー; 膜厚制御性; 反射波長制御; 短波長X線ミラー; 非周期的多層膜ミラー; 温度依存性; 成長速度 |
| 資料種別 | Technical Report |
| ISSN | 0289-8411 |
| SHI-NO | AA0000558035 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/51402 |
