タイトル | Development of beam intensity monitors for intense undulator X-rays in SPring-8 |
その他のタイトル | SPring-8の高強度アンジュレータX線のためのビーム強度モニターの開発 |
著者(日) | 伊藤 拓; 岸 紀行; 秦 和夫; 谷口 真吾; 成山 展照; 伴 秀一; 波戸 芳仁 |
著者(英) | Ito, Taku; Kishi, Noriyuki; Shin, Kazuo; Taniguchi, Shingo; Nariyama, Nobuteru; Ban, Shuichi; Namito, Yoshihito |
著者所属(日) | 京都大学 大学院工学研究科; 京都大学 大学院工学研究科; 京都大学 大学院工学研究科; 高輝度光科学研究センター; 高輝度光科学研究センター; 高エネルギー加速器研究機構; 高エネルギー加速器研究機構 |
著者所属(英) | Kyoto University Graduate School of Engineering; Kyoto University Graduate School of Engineering; Kyoto University Graduate School of Engineering; Japan Synchrotron Radiation Research Institute; Japan Synchrotron Radiation Research Institute; High Energy Accelerator Research Organization; High Energy Accelerator Research Organization |
発行日 | 2001-07-31 |
刊行物名 | Proceedings of the Ninth EGS4 User's Meeting in Japan Proceedings of the Ninth EGS4 User's Meeting in Japan |
開始ページ | 48 |
終了ページ | 55 |
刊行年月日 | 2001-07-31 |
言語 | eng |
抄録 | Saturation characteristics of Si photodiode (Hamamatsu S5377), Free Air Ionization Chamber (FAIC) and BGO scintillator for intense synchrotron radiation beam were measured with varying the thickness of Al absorber at the undulator beamline BL46XU in SPring-8. The FAIC showed serious saturation owing to the recombination when the beam intensity exceeded about 1 x 10(exp 11) photons/s for 15 keV X-rays and 1.0 mm x 0.5 mm beam size, while no tendency of the saturation was observed in case of the Si photodiode. |
キーワード | beam intensity monitor; undulator X ray; synchrotron radiation; Si photodiode; free air ionization chamber; BGO scintillator; EGS4; Monte Carlo simulation; research and development; ビーム強度モニター; アンジュレータX線; シンクロトロン放射; Siホトダイオード; 自由大気イオンチェンバー; BGOシンチレータ; EGS4; モンテカルロシミュレーション; 研究開発 |
資料種別 | Conference Paper |
SHI-NO | AA0033076008 |
レポートNO | KEK-Proceedings-2001-22 |
URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/53189 |