真空紫外レーザーによる合成石英ガラスのアブレーション

Abstract

高次反ストークスラマン散乱を用いた真空紫外(VUV)レーザーの多波長ビームの同時照射による合成溶融石英のフォトアブレーションについて述べた。133-594nmの大きく広がったラマンシフト線を放射するVUVレーザーは溶融石英のレーザーアブレーションに有効な唯一のものである。13nm/sのアブレーション速度でコンタクトマスクを用いて箱型断面形状分布の明確なパターンを形成した。有効吸収係数は3.4×10｛-5｝cm｛-1｝であった。このことは、このプロセスにおいて150nmよりも短い波長成分と266nmの基本ビームの相乗効果が最も重要な役割を果していることを意味している。

Photoablation of synthetic fused quartz by simultaneous irradiation of multi-wavelength beams of a Vacuum-Ultraviolet (VUV) laser using high-order anti-Stokes Raman scattering is described. The VUV laser, which radiates widely spread Raman-shifted lines from 133 nm to 594 nm, is unique for the effective laser ablation of the fused quartz. Well-defined patterns with a cross-sectional profile of a rectangular shape are formed by using a contact mask at an ablation rate as high as 13 nm/s. An effective absorption coefficient of 3.4 times 10(exp -5) kayser), which indicates that a combined effect of the wavelength components below 150 nm and the fundamental beam of 266 nm has the most important role in the process, is obtained.