| タイトル | パルスレーザー堆積法による軟X線多層膜ミラーの作製 |
| その他のタイトル | Fabrication of soft X-ray multilayer mirror by pulsed laser deposition |
| 著者（日） | 岩井 荘八; 石井 真史; 小室 修二; 長 恵子; 小舘 香椎子; 青柳 克信 |
| 著者（英） | Iwai, Sohachi; Ishii, Masashi; Komuro, Shuji; Cho, Keiko; Kodate, Kashiko; Aoyagi, Yoshinobu |
| 著者所属（日） | 理化学研究所; 理化学研究所 大型放射光施設計画推進本部; 理化学研究所 半導体工学研究室; 理化学研究所 半導体工学研究室; 理化学研究所 半導体工学研究室; 理化学研究所 |
| 著者所属（英） | Institute of Physical and Chemical Research; Institute of Physical and Chemical Research Division of Spring-8 Project; Institute of Physical and Chemical Research Semiconductors Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Semiconductors Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research Semiconductors Laboratory; Institute of Physical and Chemical Research |
| 発行日 | 1997-09-30 |
| 刊行物名 | レーザー科学研究
Laser Science Progress Report of RIKEN |
| 号 | 19 |
| 開始ページ | 10 |
| 終了ページ | 12 |
| 刊行年月日 | 1997-09-30 |
| 言語 | jpn |
| 抄録 | 14周期2層膜、周期長6.7nmの軟X線ミラーを目的として、KrFエキシマレーザを用いたパルスレーザ堆積法により非晶質Ti/Cr多層膜を作製した。波長2.95nmにおけるミラーの反射率は入射角76.6度のとき18.5%であった。界面粗さは、実測反射率と粗さを含めて計算した反射率との比較から約0.3nmであると推定した。
Amorphous Ti/Cr multilayers for soft X-ray mirror with a period of 6.7 nm with 14 bilayers were fabricated by pulsed laser deposition using KrF excimer laser. Reflectivity of this mirror at the wavelength of 2.95 nm was 18.5 percent at the incident angle of 76.6 deg. Roughness of the interface was estimated to be about 0.3 nm in comparison of the measured reflectivity with the calculated value including the roughness. |
| キーワード | soft X ray multilayer mirror; pulsed laser deposition; KrF excimer laser; Ti Cr multilayer; Fresnel coefficient; soft X ray reflectivity; multilayer interface roughness; laser ablation; atomic force microscope; laminated bilayer; 軟X線多層膜ミラー; パルスレーザ堆積法; KrFエキシマレーザ; チタン/クロム多層膜; フレネル係数; 軟X線反射率; 多層膜界面粗さ; レーザアブレーション; 原子力間顕微鏡; 2層膜積層 |
| 資料種別 | Technical Report |
| ISSN | 0289-8411 |
| SHI-NO | AA0001046004 |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/56666 |
