化学機械研磨プロセス開発における「その場」観察の適用事例

Abstract

化学機械研磨現象の基礎的な理解のためには，液中での「その場（In-situ）」観察，評価手段が有用である。大気中と比較して，液中での測定はより難しくなる場合が多い。化学機械研磨はウェットプロセスであり，液中での評価が必須である。本稿では，光とプローブを用いた異なる三種の液中評価手法を試み，研磨プロセス中の表面反応，研磨粒子の挙動などを解析した。その結果，有用な評価手法として用いることができることが確認できたので，得られた結果を紹介し，これら液中in-situ評価手法を広めていきたいと考える。

In developing a basic understanding of what is happening during the chemical mechanical polishing process, evaluation techniques based on in-situ (in-liquid) observation are useful. Compared with in-air measurement, in-liquid measurement is often very difficult. Chemical mechanical polishing is a wet process, which absolutely requires evaluation based on in-liquid measurement. In this study, we tried three different evaluation techniques based on in-liquid measurement that uses light and a probe in order to analyze the surface reactions and behavior of abrasive particles during the polishing process. As a result, we determined that these techniques can be used as useful evaluation methods. In this paper, we describe the observation results with the hope that we can popularize these in-situ (in-liquid) evaluation techniques.