| タイトル | Characterization of magnetic thin films etch process in N2 plasmas |
| その他のタイトル | Characterization of magnetic thin films etch process in N2 plasmas |
| 参考URL | http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100696797 |
| 著者（日） | 栗原, 拓哉; 佐藤, 道貴; 森, 伸介; 鈴木, 正昭 |
| 著者（英） | Kurihara, Takuya; Sato, Michitaka; Mori, Shinsuke; SUZUKI, MASAAKI |
| 発行日 | 2015-09-24 |
| 刊行物名 | Proceedings of 21th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC21) |
| 刊行年月日 | 2013-08 |
| 言語 | en |
| 資料種別 | Conference Paper |
| URI | https://repository.exst.jaxa.jp/dspace/handle/a-is/607834 |
